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O2氧等離子體處理對(duì)殼聚糖膜表面性能的影響 低溫等離子體可以在室溫下對(duì)材料進(jìn)行表面改性處理,在材料表面引入自由基或活性官能團(tuán)，采用O2等離子體處理能有效改善殼聚糖膜表面親水性,主要原因是等離子體處理在殼聚糖膜表面引入-OH、-COO、H2N-C=O等極性基團(tuán)。

Sep. 28, 2025

功率模塊封裝基板等離子清洗技術(shù)應(yīng)用 與現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)功率模塊封裝基板的清洗技術(shù)對(duì)比而言，等離子清洗技術(shù)取代了液體化學(xué)清洗方法，以避免對(duì)基板上的功率器件和電路布線的腐蝕，同樣，取代了激光清洗方法，以減少粉塵的產(chǎn)生和對(duì)基板的沾污。

Sep. 27, 2025

常見的大氣壓冷等離子體發(fā)生裝置 產(chǎn)生大氣等離子體射流的裝置組成般為氣體源、電源和等離子體發(fā)生器。電源按照不同的性質(zhì)特點(diǎn)分為中頻 交流電源、直流電源、射頻電源等。常見的大氣壓冷等離子體發(fā)生裝置可分為介質(zhì)阻擋放電裝置和裸電極放電裝置。

Sep. 27, 2025

低溫等離子體絕緣材料表面改性應(yīng)用 面向絕緣材料對(duì)表面耐電、耐候等綜合性能優(yōu)化提升的切實(shí)需求,發(fā)展新型的絕緣材料表面改性及性能提升技術(shù)具有十分重要的意義。低溫等離子體技術(shù)因其高反應(yīng)活性、處理效果可控、綠色無污染等特點(diǎn),在材料表面改性領(lǐng)域展現(xiàn)出獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。

Sep. 25, 2025

等離子體灰化工藝 等離子灰化工藝的核心在于通過等離子體氧化反應(yīng)有效去除光刻膠。等離子體中產(chǎn)生的活性物質(zhì),如原子氧或氟自由基,具有極強(qiáng)的反應(yīng)性,能夠與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)高效去除。

Sep. 19, 2025

PDMS表面氧等離子體處理提高親水潤(rùn)濕性能 在聚二甲基硅氧烷(PDMS)微納米器件的制造過程中,經(jīng)常需要在PDMS基片表面進(jìn)行光刻膠的圖形化。通過對(duì)PDMS基片表面進(jìn)行氧等離子體改性處理,提高了PDMS的表面潤(rùn)濕性,使得光刻膠可以均勻地旋涂在PDMS基片表面。

Sep. 17, 2025